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半导体制造用超纯水设备

来源:南昌水处理设备工程公司 责任编辑:南昌水处理工程师 发表时间:2016-08-02 14:57 点击:

  超纯水是半导体制造的重要因素之一,半导体制造用超纯水设备操作简单易懂,运行经济环保,出水不含任何杂质,符合半导体制造的用水标准,深受很多厂家的欢迎。

  莱特莱德水处理设备公司是水处理设备的优质供应商,多年来致力于中国水处理事业的发展,并采纳了全球先进的技术和水处理设备。拥有专业技术研发联队伍,优良的水处理设备及器材,有配套完善的生产制造工厂,完美的设计,精良的施工质量,完善的售后服务质量,为客户提供快捷优质的服务。

  半导体制造用超纯水设备进水要求

  1、RO产水,电导≤20μs•cm(最好<10μs•cm)

  2、PH值:6.0-9.0(最好7.0-9.0,但硬度不可过高)

  3、水温度:5-35

  4、硬度(以CaCO3计):<0.5mg/l

  5、有机物:最大为0.5ppm,TOC建议值为零

  6、氧化剂:最大为0.05ppm(Cl2),0.02ppm(O3),最优两者为零

  7、铁锰:<0.01ppm

超纯水设备
超纯水设备

  半导体制造用超纯水设备的工艺流程

  1、原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→中间水箱→输送泵→混合床离子交换器→紫外线杀菌器→微孔过滤器→纯水箱→用水点(推荐工艺电阻率≥5MΩ.CM)

  2、原水→原水增压泵→精密过滤器→电渗析过滤器→中间水箱→中间水泵→离子交换设备→紫外线杀菌器→微孔过滤器→纯水箱→用水点(传统工艺电阻率≥5MΩ.CM)

  3、原水→原水增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→复床系统→中间水箱→中间水泵→混合离子交换设备→紫外线杀菌器→微孔过滤器→纯水箱→用水点(传统工艺电阻率≥5MΩ.CM)

  4、原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→紫外线杀菌器→纯水箱→用水点(推荐工艺电导率≤10μS/CM)

  5、原水→原水增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→复床系统→紫外线杀菌器→微孔过滤器→纯水箱→用水点(传统工艺电导率≤10μS/CM)去离子设备处理工艺流程--EDI电去离子设备-去离子设备-水处理工艺流程-多介质过滤器-紫外线消毒-离子交换设备

  半导体制造用超纯水设备技术特点

  持续长久的生产超纯水,出水水质15MΩ·cm-18MΩ·cm。绿色技术,无需酸碱再生,减少了对环境的污染。低能耗,高水质。

  1、超长纯化水道设计,使进水行程更大,纯化时间更长,出水水质稳定。

  2、独立密封圈设计,杜绝膜堆渗漏。

  3、无需清洗,无需再生。

  4、浓水、极水回收利用,有效的节约使用成本。

  5、操作、维护简便,使用更加便捷。

  6、零部件独立设计制作,保证半导体制造用超纯水设备品质稳定。